電鍍處理過程中所用的設備主要有各（gè）類（lèi）固定槽、滾鍍槽、掛具、吊（diào）籃等。鍍後處理是對零件進行拋光、出光、鈍化、著色、幹燥、封閉、去氫等工作，龍門式掛鍍生產線，根據需要選用其中一種或（huò）數種工序使零件符合質量要求。鍍後處（chù）理常用設（shè）備主要有磨、拋光機，各類固定槽。全自動（dòng）環形（xíng）垂直升降電鍍流水線
工藝要求（qiú）
1. 鍍層與基體金（jīn）屬，鍍層與鍍層之間，應有良好的結合力。
2. 鍍層應結（jié）晶細致，掛鍍生產線研發，平整，厚度均勻。
3. 鍍層（céng）應具有規定的（de）厚度（dù）和盡（jìn）可能少的孔隙。
4. 鍍層應具有（yǒu）規定的（de）各項指（zhǐ）標，如光亮度，硬度，導電（diàn）性等。
5. 環境溫度為-10℃～60℃;
6. 輸入電（diàn）壓為220V±22V或380V±38V;
7. 水處理設備最（zuì）.大工作（zuò）噪（zào）聲應不大於80dB(A)。
8. 相對濕度(RH)應不大於95%;
9. 原（yuán）水COD含量為100mg/L～150000mg/L。
10. 電鍍時間及電鍍過程的溫度，決定鍍（dù）層厚度（dù）的（de）大小。
電鍍的概（gài）念
就是利用（yòng）電解（jiě）原理在某些金屬表麵上鍍上一薄層其（qí）它金（jīn）屬或合（hé）金的過程。電鍍時（shí），鍍層金屬做（zuò）陽極，被氧化成陽離子（zǐ）進入電鍍液；待鍍的金屬製品做陰極（jí），鍍層金屬的陽離子在金屬表麵被（bèi）還原形成鍍層（céng）。為排除其它陽離子的幹擾，且使鍍層均勻、牢固，掛鍍生產線公司，需用含鍍層金屬陽離（lí）子的（de）溶液做電鍍（dù）液，以保持鍍層金（jīn）屬陽離子（zǐ）的濃度不變。電鍍的（de）目的是在基材上鍍上金屬鍍層，改變基材表麵性質或尺寸.電鍍能增強金屬的抗腐蝕性(鍍層金屬多采用耐腐蝕的金屬)、增加硬度、防止磨耗、提高導電性、潤滑性、耐熱性、和表麵美觀。
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